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来源:每日经济新闻
15日早间,上证指数高开0.23%,深证成指涨0.16%,创业板指跌0.13%。开盘后市场继续下探,创业板低开低走,下破2000点,为2020年4月以来首次。
不过,上午10点国家统计局发布8月经济数据,多项数据超预期复苏,带动各指数回升。截至午间收盘,两市个股涨多跌少,上证指数涨0.28%,深证成指上涨0.11%,创业板指翻红上涨0.11%。
截至发稿上证综指、深证成指和创业板指年内涨幅分别为1.49%、-7.33%、-14.17%。
昨日,在创业板上市的苏大维格(300331.SZ)一则自称“已实现光刻机销售”的互动平台回复引爆市场,午后公司股价“20CM”直线涨停,其热度冲上榜首。
深交所15日向苏大维格下发关注函,要求说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造。
光刻机引爆“20CM”涨停
14日下午,苏大维格股价直线拉升,截至收盘封死20%涨停。15日,苏大维格低开6.43%,不久后翻红快速上涨,截至午间收盘大涨13.13%。
消息面上,公司14日在互动平台中称:“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口;同时,公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”
该消息发出后,不少投资者直呼苏大维格是“国产之光”,市场情绪激烈。
据中国证券报,苏大维格证券部相关工作人员表示,公司销售的是激光直写光刻机,与芯片光刻机没有关系。该工作人员进一步解释称:“我们把(激光直写)光刻机卖给他们,他们在芯片制造中可能会应用到我们的设备,产品本身不是芯片光刻机。”
激光直写光刻机与投资者理解的芯片光刻机差距有多远?某芯片上市公司高管表示,芯片厂现在用的基本都是掩膜光刻机,激光直写光刻技术受限于激光波长,还无法满足高端半导体器件制造的需求。
据财联社报道,CINNO Research研究总监刘雨实介绍,“苏大维格的光刻机是指激光直写光刻机,与传统掩膜光刻相比,激光直写精度较差但成本也较低,多用于封装等领域,具有较高的灵活性。”
资料显示,苏大维格是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商,主要为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。公司主要产品为微纳光学产品、反光材料、设备。
业绩方面,2023年上半年,苏大维格实现营收7.88亿元,同比下降10.47%;归母净利润1217.69万元,同比增长784.54%。
截至15日午间收盘,苏大维格年内股价已涨100%,总市值97亿元。
被深交所关注
苏大维格15日早间收到深交所关注函,要求补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况,并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距,并进一步提示相关风险。
14日晚,苏大维格在互动易上也再度回应了光刻机相关问题。
苏大维格在互动平台表示,在大类上,光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机,如ASLM的EUV设备,好比“复印机”,把掩摸上的图形投射到硅片上,可用于各类芯片的批量生产,这类光刻机技术工艺和材料难度极高。
第二类是无掩摸光刻机,也称直写光刻机,包括激光直写光刻机和电子束光刻机等,用于直接将数据转变成相关图形,好比“打印机”,可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。
苏大维格表示,公司长期从事光刻机的研制,光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所,再到销售给相关企业的发展路径。目前,公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入;纳米压印光刻领域,公司设备主要为自用,对外销售金额与直写光刻机相比较小;此外,公司也开发了投影扫描的光刻设备,拟应用于光伏电镀铜图形化领域,目前尚未实现销售。
编辑|卢祥勇 易启江校对|孙志成
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